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Fondée en 1984 par Philips et ASM, ASML est aujourd’hui seule au monde à fabriquer les machines EUV : comment elle est devenue indispensable aux puces les plus avancées

ASML est née en 1984 d’une coentreprise entre Philips et ASM International. Quarante-deux ans plus tard, elle est le seul fabricant mondial de systèmes de lithographie EUV, une technologie utilisée pour imprimer les couches les plus fines et les plus critiques des puces avancées. Son avantage vient autant d’un pari technologique de plusieurs décennies que d’un réseau mondial de partenaires impossible à reconstruire rapidement.

Lieu : Pays-Bas

Illustration STORIMITIK d’un système de lithographie EUV ASML avec opérateur en salle blanche et wafer au premier plan.
ILLUSTRATION GÉNÉRÉE STORIMITIK — V1 : ASML est actuellement le seul fabricant mondial de systèmes de lithographie EUV. Le système représenté est une reconstitution éditoriale inspirée de la plateforme NXE:3800E.

En 1984, ASML ne naît pas de deux ingénieurs isolés mais d’une coentreprise entre Philips et ASM International. Sa mission est alors beaucoup plus modeste qu’aujourd’hui : commercialiser un wafer stepper développé chez Philips, le PAS 2000.

Quatre décennies plus tard, la situation s’est inversée. ASML est devenue le seul fabricant au monde de systèmes de lithographie EUV, les machines utilisées pour imprimer les couches les plus fines et les plus critiques des puces les plus avancées.

1984 : une coentreprise néerlandaise, pas encore un géant

ASML commence ses activités le 1er avril 1984 sous le nom ASM Lithography. Philips apporte la technologie du PAS 2000 ; ASM International apporte l’élan entrepreneurial et l’accès à l’industrie des équipements pour semi-conducteurs.

Le projet reste fragile. Sur les 50 ingénieurs du groupe Philips concerné, 47 acceptent de rejoindre la nouvelle société. ASML grandit ensuite assez vite pour dépasser ses premiers locaux et s’installer à Veldhoven, qui deviendra son siège mondial.

La lithographie : imprimer des circuits avec de la lumière

Une machine de lithographie ne fabrique pas une puce à elle seule. Elle projette sur une tranche de silicium des motifs extrêmement fins qui servent ensuite à construire les différentes couches du circuit.

Plus la longueur d’onde utilisée est courte, plus il devient possible de dessiner de petits motifs. Les systèmes EUV d’ASML utilisent une lumière de 13,5 nanomètres, plus de quatorze fois plus courte que la lumière DUV à 193 nm.

Le pari de l’EUV : fabriquer une lumière presque impossible

Pour produire cette lumière, des gouttelettes d’étain liquide d’environ 25 micromètres sont éjectées à près de 70 mètres par seconde dans la source. Elles reçoivent deux impulsions laser : la première les aplatit, la seconde les transforme en plasma qui émet l’ultraviolet extrême.

Dans les sources commerciales les plus récentes, ASML indique que ce processus peut se répéter jusqu’à 60 000 fois par seconde. L’EUV est en outre absorbé par presque tout, y compris l’air : le trajet optique doit donc fonctionner sous vide et utiliser des miroirs multicouches plutôt que des lentilles.

Illustration STORIMITIK expliquant la production de lumière EUV par gouttelettes d’étain, impulsions laser, plasma, miroirs et projection sur wafer.
ILLUSTRATION GÉNÉRÉE STORIMITIK — V2 : gouttelettes d’étain à environ 70 m/s, deux impulsions laser, lumière EUV à 13,5 nm, miroirs multicouches et cycle pouvant atteindre 60 000 fois par seconde dans les sources commerciales les plus récentes.

Il a fallu des décennies avant que l’EUV devienne industriel

L’idée de la lithographie EUV remonte aux années 1980, mais la transformer en production industrielle a demandé des décennies. ASML expédie son premier prototype EUV en 2010, puis son premier système de production en 2013.

En 2012, Intel, Samsung et TSMC acceptent même de cofinancer une partie de la R&D d’ASML. En 2013, ASML rachète Cymer, spécialiste américain des sources lumineuses, pour accélérer le développement de l’EUV. Malgré cela, il faudra encore des années avant que les premiers produits commerciaux fabriqués avec EUV arrivent réellement sur le marché.

Aujourd’hui, ASML est seule au monde à fabriquer ces systèmes

Le rapport annuel 2025 d’ASML le formule sans ambiguïté : l’entreprise est actuellement le seul fabricant mondial de systèmes de lithographie EUV. Ces machines servent aux couches les plus complexes des puces Logic et Memory les plus avancées.

En 2025, ASML a réalisé 32,7 milliards d’euros de chiffre d’affaires et vendu 48 systèmes EUV. Son NXE:3800E appartient à la plateforme EUV 0,33 NA ; la génération High-NA utilise la plateforme EXE à 0,55 NA, conçue pour pousser encore plus loin la résolution.

Illustration STORIMITIK montrant ASML au centre d’un écosystème mondial reliant Europe, États-Unis et Asie autour des puces avancées.
ILLUSTRATION GÉNÉRÉE STORIMITIK — V3 : représentation éditoriale de la dépendance mondiale à l’écosystème de lithographie avancée. ASML est néerlandaise, mais ses systèmes reposent aussi sur des partenaires et sites technologiques internationaux.

Une dépendance mondiale, mais pas une machine entièrement néerlandaise

Parler d’une « machine européenne dont dépend le monde » est vrai seulement si l’on garde une nuance essentielle : ASML intègre un réseau mondial de compétences. Les optiques EUV sont développées avec ZEISS en Allemagne ; la source lumineuse s’appuie notamment sur les équipes issues de Cymer à San Diego.

La singularité d’ASML tient donc moins à une invention isolée qu’à sa capacité à assembler une chaîne technologique que personne d’autre ne sait aujourd’hui reproduire à cette échelle industrielle.

C’est ce qui transforme une entreprise née d’un projet de Philips et d’ASM International en un point de passage du calcul moderne. Smartphones, data centers, intelligence artificielle, automobiles ou équipements industriels ne sortent pas directement des usines d’ASML ; mais une partie croissante de leurs puces les plus avancées dépend de motifs imprimés par ses systèmes.

ASML ne vend donc pas seulement des machines très chères et très complexes. Elle vend une capacité : continuer à réduire la taille des motifs que l’industrie sait imprimer sur le silicium. Tant que cette frontière technologique restera concentrée chez un seul fournisseur EUV, la petite coentreprise de 1984 conservera une importance disproportionnée dans l’économie numérique mondiale.

Sources